高性能直读光谱仪OE750的全面金属分析控制

OE750的新光学系统设计的一个优点是启动时间短。由于光学系统体积小，不到一小时的时间便可启用仪器。可在需要检查100%来料的情况下，助力实现高批量生产。 除了新的光学设计之外，OE750还有其他支持大批量金

      OE750的新光学系统设计的一个优点是启动时间短。由于光学系统体积小，不到一小时的时间便可启用仪器。可在需要检查100%来料的情况下，助力实现高批量生产。

      除了新的光学设计之外，OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台，具有优化层流设计，可降低氩气消耗，降低污染的可能性，并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的独特中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%，并避免油气污染，从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。

      除创新性硬件技术外，新型OE750还包括可提高性能的软件。例如，它包括日立牌号数据库，该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准，减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。作为选择方案，它配有SPC/LIMS包，能够轻松有效监控该仪器所涉过程以及由其控制的过程。这是满足IATF 16949等标准要求的理想工具。

      日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示：“在过去，金属加工企业在购买仪器时，不得不在高分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750，他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供全面的金属分析。”